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等離子處理設(shè)備有很多功能和形態(tài)，今天我們主要講等離子處理設(shè)備在手機制造業(yè)中常用到的三種功能。

第一種，清洗功能，等離子處理設(shè)備利用各種氣體等離子清洗、清潔（屏幕、蓋板、中框等）制品上的有機物、氧化物、微小顆粒。優(yōu)點，就是清洗后無污染殘留、提高材料表面的親水性、附著力、粘貼能力。

第二種，改性功能，利用氣體等離子改性材料表面分子結(jié)果，是材料表面達因值保持高度活躍，從而提高材料表面的附著力和粘接力（應(yīng)用實例：保護膜、保護套印刷、屏幕印刷等等）。優(yōu)點，就是無污染、無害、生產(chǎn)速度快。

第三種，去膠功能，利用氣體等離子去除芯片上的光刻膠、線路板上的殘膠，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、線路板制造。優(yōu)點，就是無污染，無殘留，無害、生產(chǎn)速度快。

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